六一年,成立三年的GCA(美国地球物理公司)造出了世界第一台接触式光刻机。
七十年代,尼康公司和佳能公司开始进入这个领域,作为光学行业的顶级巨鳄,相机里的一块CMOS感光元件,技术难度都比当时的光刻机不知道高多少倍?如鱼得水!
七十年代,Kasper仪器公司首先推出了接触式对齐机台并领先了几年,Cobilt公司做出了自动生产线,但接触式机台后来被接近式机台所淘汰。
七三年,拿到美国军方投资的P&E公司推出了投影式光刻系统,搭配正性光刻胶非常好用而且良率颇高,因此迅速占领了市场。
七八年,GCA推出了世界上第一台商用步进光刻机DSW4800,该机器使用G线汞灯和蔡司光学元件,以10:1的比例将芯片线路成像到十毫米见方区域。
八零年,尼康公司率先推出日本首台KrF商用步进光刻机NSR-1010G,能够以五倍的分辨率的减少实现1μ制程工艺,生产比GCA更高分辨率的镜头吸引客户。
IBM、II、AMD和HP等美国半导体公司,在公司利益面前果断放弃美国利益,纷纷掉头投入尼康公司的怀抱。
在尼康公司的打压下,GCA的高端市场份额不断减少,在八五年、八六年损失一亿美元,不得不裁员七成;八八年,美国通用信号公司以七千六百万美元收购了陷入财务困境的GCA,为了与尼康竞争,Seatech(美国半导体制造技术战略联盟)资助GCA开发成功KrF光刻机,实现了1μ制程工艺,但尼康光刻机的制程工艺提升到800n,GCA的高端市场份额没有多大起色。
六六年,中K院109所与沪海光学仪器厂联手协作成功研制中国第一台光刻机、65型接触式光刻机。
八一年,中K院半导体研究所研制成功JK-1半自动接近式光刻机。
八二年,109厂、冰城量具刃具厂和阿城继电器厂共同研制成功KHA75-1型半自动接近式光刻机,在指标上已经完全对标日本的PLA500-F型。最近转码严重,让我们更有动力,更新更快,麻烦你动动小手退出阅读模式。谢谢
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